توضیح مختصر

مس C12000 یک گرید آلیاژی سبک از مس است که برای شکل‌دهی اولیه به محصولات نوردی فرموله شده‌است. این آلیاژ همچنین با نام  Cu-DLP یا دی اکسید فسفر مس با مقدار محدود و متوسط فسفر باقی مانده شناخته می‌شود که امروزه این نام چندان رایج نیست. مس ۱۲۰ همچنین به دلیل تشکیل لایه محافظ سبز رنگ ناشی از نمکهای اساسی مس (مانند سولفاتها، کلریدها در محیط دریایی، نیتراتها و کربناتها) در برابر خوردگی جوی مقاوم است.

نامهای تجاری رایج

C12000

Phosphorus Deoxidised Tough Pitch Copper

De-Oxidized Low Phosphorus Copper Alloy

Cu-DLP

کاربردها

نوار کابل
شینه های جوش‌داده‌شده یا لحیم‌کاری‌شده
میله‌های لوله‌ای
قاب های سربی برای نیمه هادی‌ها
تجهیزات جوشکاری مقاومتی

مشخصات مس C12000

UNS C12000 

ISO Cu-DLP

ASTM B152

ASTM B187

مشخصات فیزیکی و مکانیکی

عنوان	مقدار
Density	۸٫۸۹ (g/cm³)
Melting Point	۱۰۸۳ (°C)
Thermal Expansion	۱٫۷×۱۰-۵/K
Modulus of Elasticity	۱۱۷ GPa
Thermal Conductivity	۳۸۸(W/m.K)
Electrical Resistivity	۰٫۱۰۶×۱۰-۶ (Ω.m)
Tensile Strength	۲۲۱-۳۹۳ MPa
Yield Strength	۶۹-۳۶۵ MPa
Hardness Rockwell	۸۳RF
Elongation	Max 55%

قابلیت جوشکاری مس C11000 

لحیم‌کاری، جوشکاری قوس گاز محافظ، جوشکاری اکسی استیلن و جوش لب به لب روش هایی هستند که برای جوشکاری مس UNS C12000 استفاده می‌شوند. همچنین، پیشنهاد می‌شود برای جوشکاری این آلیاژ از جوشکاری درز، جوشکاری قوس الکترود پوشش‌دار و جوش نقطه‌ای استفاده نشود.

کارپذیری مس C11000

قابلیت ماشینکاری– نرخ ماشینکاری مس c120 برابر ۲۰% است.

قابلیت کار سرد– بسیار عالی

مشخصات شیمیایی

نام عنصر	مقدار (%)
مس (Cu)	Max 99.9
فسفر (p)	Max 0.008